- 模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现
- 何宾编著
- 396字
- 2024-01-05 17:18:56
2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739488342-nGmGFkigkEnA8D3sAmrywzMrFBTPnyij-0-e8cd9a9957aa505451f96e4fdf0c927b)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739488342-yneRN6pnynWdI6zKsmG7i4v1qUPtysI3-0-a919984cd2348aa9fb703df8614a4fa1)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739488342-vVYMH1PJvqM4TxYNGgPiP9NWFAaMa5tN-0-8efcb5e680ded57edf6be9175c86c7d9)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739488342-BIeQltMLe7kPYJrJBopO43ruELIPK2zE-0-fef6ee4b2fb7682e8b6f5c697872cd9a)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739488342-01e0JwXoiDCD3Xk75DQLPmBj9zFdDOKr-0-3ed8fd47d2ba58fce84173d29dd31172)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739488342-rZp1aywXWscRKyJ8MtqzOWIulVDrnxZa-0-dcf5de88d120bb5cfe02106c08e94760)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739488342-yMwPdDn9zXFwOrbgl01iOHlijT6LaFqo-0-5477248e454b61a0b44831fe36471c3a)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739488342-VCCRlNqIhph2pV9a7tR9FWEhwiq1P6aS-0-8ff3b3acd743853b22c5f1d87edadbf4)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。